Forskellen mellem orienterede silicium stålplader og ikke-orienterede silicium stålplader

GNEE stål koldvalset orienteret elektrisk stål

Definition af ikke-orienteret siliciumstålplade

Ikke-orienteret siliciumstålplade er en siliciumstålplade med en ikke-orienteret deformationstekstur krystallinsk struktur dannet i henhold til en bestemt produktionsproces.

Orienteret silicium stålplade

I begyndelsen af ​​1920'erne studerede William (Williams) enkeltkrystaller i ferrosilicium og fandt ud af, at um=1400000 i retningen af ​​{100} den lette magnetiseringsakse. Han mente, at det skulle være fremragende i {100}-aksen i den polykrystallinske plade. Ydeevne.
I 1926 opdagede den japanske Honda Mao, at den krystallografiske retning af jern er den nemmeste at magnetisere, eller retningen af ​​krystalkornets terningkant er den retning, der er lettest at magnetisere.
I 1934 udviklede det amerikanske NPGoss med succes orienterede siliciumstålplader i laboratoriet. Han brugte en kombination af koldvalsning og højtemperatur varmebehandling til at få krystalkornene i siliciumstålpladerne til at arrangere på en velordnet måde langs rulleretningen. magnetisk.
I 1935 publicerede Goss en artikel i "TransAmer.Soc.Metals", introducerede forskningsresultaterne og ansøgte om et britisk patent (nr. 442211).
Samme år begyndte Armco i USA industriel produktion afkoldvalset orienteret siliciumstålark. I 1940'erne producerede både Armco og Allegheny højkvalitets orienterede siliciumstålplader til transformere. Armcos varemærke er Tran-cor (Westinghouse kaldet Hipersil); Allegenys varemærke er Silicon (GE Company kaldet Corosil).
I 1953 forsøgte Japan at producere koldvalsede orienterede siliciumstålplader.
I 1958 introducerede Japan Armcos patenterede teknologi til at starte den industrielle produktion af koldvalsede orienterede siliciumstålplader, og på dette grundlag har løbende forbedringer gjort, at ydeevnen af ​​japanske koldvalsede siliciumstålplader har nået det højeste niveau i verden.
Den enkeltorienterede siliciumstålplade har lav magnetisk permeabilitet i retningen vinkelret på rulleretningen. For at overvinde denne mangel opfandt den tyske vakuumsmeltevirksomhed den dobbeltorienterede siliciumstålplade i 1940'erne.
I 1957 producerede GE og Westinghouse i USA også dobbeltorienterede siliciumstålplader næsten samtidigt. I 1960'erne udviklede Kawasaki- og Yawata-fabrikkerne i Japan også med succes dobbeltorienterede siliciumstålplader. Dens magnetiske egenskaber i rulleretningen og den lodrette retning ligner dem for den enkeltorienterede siliciumstålplade i rulleretningen. Krystalkornene i denne siliciumstålplade er kubiske.
I 1968 begyndte Japans Nippon Steel Plant industrielt at producere højpermeabilitetsorienterede siliciumstålplader. Dets kommercielle navn er "Orientcore Hi-B", eller "Hi-B" for kort; i 1972 blev orienteret siliciumstål med stort gitter med høj permeabilitet udviklet. I 1981 blev en orienteret siliciumstålplade med lille gitter og høj permeabilitet videreudviklet; i 1982 begyndte Japan at producere overfladelaserbestrålingsbehandling (ZDKH) højpermeabilitet orienteret siliciumstålplade, som yderligere reducerede jerntab.
I 1988 udviklede Japan en højpermeabilitetsorienteret siliciumstålplade ved hjælp af mekaniske metoder til at danne mikrostressmetoden (ADMH). Synspunkter på udviklingen af ​​kornorienteret siliciumstålplade fra Nippon Steel Corporation. I 1950'erne, udførelsen af ​​enkelt-orienterede silicium stålplader i flere lande. ·Mellem 1955 og 1975 ændrede kvaliteten af ​​orienteret siliciumstålplade og ikke-orienteret siliciumstålplade i Japan. Fra 1880 til 1970, den faldende kurve af kernestål pladejern tab.

Forholdet mellem ikke-orienteret siliciumstålplade og orienteret siliciumstålplade
1. Forskelligt siliciumindhold

Begge er koldvalsede siliciumstålplader, men siliciumindholdet er forskelligt. Siliciumindholdet i koldvalsede ikke-orienterede siliciumstålplader er 0,5 %-3.0 %, og siliciumindholdet i koldvalsede orienterede siliciumstålplader er over 3 .0%.

2. Forskellige produktionsprocesser

(1) Ikke-orienterede siliciumstålplader har relativt lavere proceskrav end orienterede siliciumstålplader. Ikke-orienterede siliciumstålplader er varmvalsede stålemner eller kontinuerlige støbeemner til ruller med en tykkelse på ca. 2,3 mm.
Ved fremstilling af produkter med lavt siliciumindhold syltes varmtvalsede bredbånd og derefter koldvalsede til en tykkelse på 0,5 mm ad gangen.
Ved fremstilling af højsiliciumprodukter syltes den varmvalsede strimmel (eller normaliseres ved 800-850 grad og derefter syltes), koldvalset til en tykkelse på 0.55 eller 0. 37 mm, udglødet ved 85 0 grader i en kontinuerlig ovn med hydrogen-nitrogen blandet atmosfære, og derefter koldvalses den til 0,50 eller 0,35 mm tykkelse med en lille reduktionshastighed på 6-10 %. Koldvalsningen med dette lave reduktionsforhold kan øge kornstørrelsen under udglødning og reducere jerntabet.
(2) Begge koldvalsede plader udglødes til sidst ved 850 grader i en kontinuerlig ovn under en 20% hydrogen-nitrogen blandet atmosfære og coates derefter med en isolerende film af fosfat og kromat. Efter koldvalsning til tykkelsen af ​​det færdige produkt er de fleste stålstrimler i leveringstilstand 0,35 mm og 0,5 mm tykke.
B'erne for koldvalset ikke-orienteret siliciumstål er højere end for orienteret siliciumstål. Orienteret siliciumstålplade kræver lavt oxidindhold i stål og skal indeholde C0.03-0.05 % og inhibitorer (anden fase dispersive partikler eller korngrænse segregationselementer). Inhibitorens rolle er at forhindre væksten af ​​primære omkrystallisationskorn og fremme udviklingen af ​​sekundær omkrystallisation, hvorved der opnås høj [001] orientering.
Selve hæmmeren er skadelig for magnetisme, så efter at hæmningen er afsluttet, skal den udsættes for højtemperatur rensningsudglødning. Ved brug af anden fase-inhibitor skal pladens opvarmningstemperatur øges for at gøre de oprindelige grove anden fase-partikler til fast opløsning, og derefter vil de fine partikler blive udfældet under varmvalsning eller normalisering for at øge inhiberingseffekten.
Tykkelsen af ​​det koldvalsede produkt er {{0}}.28, 0.30 eller 0.35 mm. Det koldvalsede orienterede tynde siliciumstålbånd er lavet af 0,30 eller 0,35 mm tykt orienteret siliciumstålbånd, som derefter bejdses, koldvalses og udglødes.
Sammenlignet med koldvalset ikke-orienteret siliciumstål har orienteret siliciumstål meget lavere tab end ikke-orienteret siliciumstål og har stærk magnetisk retningsbestemmelse; den har overlegen høj magnetisk permeabilitet og lavt tabsegenskaber i rulleretningen for let magnetisering. Jerntabet af det orienterede stålbånd i rulleretningen er kun 1/3 af tværretningen, det magnetiske permeabilitetsforhold er 6:1, og jerntabet er ca. 1/2 af det varmvalsede bånd, og den magnetiske permeabilitet er 2,5 gange af sidstnævnte. .

3. Strukturen af ​​krystalkornene er anderledes

Kornene af orienteret siliciumstål er arrangeret på en ordnet måde, mens kornene af ikke-orienteret siliciumstål er ordnet uordnet. Ikke-orienteret siliciumstål bruges hovedsageligt i statorer og rotorer til motorer, kompressorer og storskala hydrogeneratorsæt. Orienteret siliciumstål bruges generelt i transformerkerner og nogle motorer.
Generatorer og transformere har de samme krav til siliciumstålplader: begge kræver lavt jerntab, gode magnetiseringsegenskaber og høj lamineringskoefficient, men transformere bruger generelt orienterede siliciumstålplader. Ikke-orienterede siliciumstålplader til generatorer.